莲花电子级氢氟酸

熔点：83.6ºC

沸点：19.5℃

蒸气压：53032

密度：1.15克/毫升

临界压力：6.48兆帕

临界温度：188ºC

临界密度：0.29克/立方厘米

电子级氢氟酸主要用途：

它无色透明，具有强烈的刺激性气味和腐蚀性。
它可以快速腐蚀玻璃等含二氧化硅的材料。

氢氟酸气体的水溶液，呈透明、无色、有烟熏味，具有腐蚀性，
气味刺鼻。电子级氢氟酸是一种弱酸，腐蚀性极强，能强烈腐蚀金属、玻璃和含硅物体。吸入或接触皮肤会造成难以愈合的灼伤。实验室中常用的氢氟酸是氟化钙（氟化钙）和浓硫酸，通常密封在塑料瓶中，并存放在阴凉处。
理化性质：

包装和运输

200公斤镀锌铁桶。

贮存

请置于阴凉干燥处保存，避免阳光直射和高温。

目前产品质量稳定保持在G5等级，行业领先，广泛应用于存储类、逻辑类和车载功率半导体芯片制造领域，我们的产品成功实现了国外同类产品的国产化替代，打破了高品质电子化学品长期以来一直被国外垄断的局面。

电子级氢氟酸是微电子行业的关键性基础化工材料之一，是湿电子化学品中的一种，由于电子级氢氟酸的纯度和洁净度对集成电路的成品率、性能及可靠性都有着十分重要的影响，生产工艺技术要求很高，目前主要依靠进口产品满足国内市场需求。在湿电子化学品领域，目前国际上公认的湿电子化学品质含量标准是SEMI国际标准，共分为五个等级，其中G5为最高等级。我国电子级氢氟酸生产厂家产品等级普遍较低，能够达到半导体所用G4级及以上的企业包括我公司在内仅三家左右，其余两家为多氟多、中巨芯（原巨化股份），高端电子级氢氟酸国产化率低。

主要用途

在半导体领域，主要用于晶圆表面清洗、芯片加工过程中的清洗和蚀刻等工序；在新型显示领域，主要用于玻璃基板清洗、氮化硅、二氧化硅蚀刻等；在光伏太阳能电池领域，主要用于硅片表面清洗、蚀刻去边、清洗制绒等环节。

应用

1. 炼油：
在一种称为烷基化的标准炼油工艺中，异丁烷在氢氟酸衍生的强酸催化剂存在下，与低分子量烯烃（主要是丙烯和丁烯的混合物）发生烷基化反应。2

. 有机氟化合物的生产：
氢氟酸的主要用途是有机氟化学。许多有机氟化合物都是以氢氟酸为氟源制备的，包括聚四氟乙烯、氟聚合物、氟碳化合物和制冷剂（如氟利昂）。3

. 氟化物的生产：
大多数高产量无机氟化物都是由氢氟酸制备的。其中最重要的是Na3AlF6（冰晶石）和AlF3（三氟化铝）。这些固体的熔融混合物可用作高温溶剂，用于生产金属铝。鉴于人们对环境中氟化物的担忧，人们正在寻求替代技术。其他由氢氟酸制备的无机氟化物包括氟化钠和六氟化铀。4

.蚀刻剂和清洗剂
在金属加工中，由于氢氟酸溶解钢的能力有限，因此被用作酸洗剂，以去除不锈钢和碳钢中的氧化物和其他杂质。在半导体行业中，它是赖特蚀刻液和缓冲氧化物蚀刻液的主要成分，用于清洗硅片。类似地，它还可以通过与二氧化硅反应生成气态或水溶性氟化硅来蚀刻玻璃。5

.特殊应用
由于氢氟酸能够溶解（大多数）氧化物和硅酸盐，因此可用于在分析前溶解岩石样品（通常是粉末状）。类似地，这种酸也用于酸浸法，以从硅酸盐岩石中提取有机化石。6

.玻璃蚀刻剂、金属处理剂。

7. 它用于电子元件制造中
蚀刻玻璃和半导体制造。
地质学家也用它来溶解沉积岩。 
稀 氢氟酸 溶液用于某些生物染色方法。